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所属分类:口腔医学相关专业知识题库
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(1)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 患者,男性,30岁,近半年来经常有冷热激发痛或隐痛史,检查发现近中深龋,治疗时不慎意外穿髓,穿髓孔如钻针大小。该患者应如何处理()
A.氢氧化钙制剂直接盖髓,羧酸水门汀垫底,银汞合金充填
B.氢氧化钙制剂直接盖髓,玻璃离子水门汀充填
C.氢氧化钙制剂直接充填,氧化锌丁香油糊剂安抚
D.活髓切断术
E.根管治疗术
A.氢氧化钙制剂直接盖髓,羧酸水门汀垫底,银汞合金充填
B.氢氧化钙制剂直接盖髓,玻璃离子水门汀充填
C.氢氧化钙制剂直接充填,氧化锌丁香油糊剂安抚
D.活髓切断术
E.根管治疗术
【◆参考答案◆】:E
【◆答案解析◆】:患牙有长期冷热激发痛或隐痛史,应诊断为慢性牙髓炎。因此,对患牙应直接施行根管治疗术。
(2)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 窝洞预备必须遵守的基本原则为()。
A.去净龋坏组织
B.保护牙髓组织
C.尽量保留健康牙体组织
D.预备抗力形和固位形
E.以上都是
A.去净龋坏组织
B.保护牙髓组织
C.尽量保留健康牙体组织
D.预备抗力形和固位形
E.以上都是
【◆参考答案◆】:E
(3)【◆题库问题◆】:[单选,A4型题,A3/A4型题] 患者,女性,72岁,全口义齿修复后进食时容易脱落,临床检查发现正中咬合无异常,下颌侧向运动时,尖牙早接触。
A.假设静止时义齿固位力良好,功能状态下容易脱落,可能的原因还有()A.基托过度伸展
B.平面过高
C.基托磨光面过于突出
D.下颌后牙排列过偏舌侧
E.以上均可能
A.假设静止时义齿固位力良好,功能状态下容易脱落,可能的原因还有()A.基托过度伸展
B.平面过高
C.基托磨光面过于突出
D.下颌后牙排列过偏舌侧
E.以上均可能
【◆参考答案◆】:E
(4)【◆题库问题◆】:[单选,A4型题,A3/A4型题] 某患者戴用全口义齿1周,主诉咀嚼费力,黏膜压痛,面部酸胀。
A.处理方法是()A.调
B.坚持戴用,逐渐适应
C.重新制作
D.基托组织面缓冲
E.重衬
A.处理方法是()A.调
B.坚持戴用,逐渐适应
C.重新制作
D.基托组织面缓冲
E.重衬
【◆参考答案◆】:C
(5)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 关于氯己定溶液,不正确的是()。
A.广谱抗生素
B.可吸附于牙表面,缓慢释放
C.每日含漱2次
D.易使细菌产生抗药性
E.长期含漱,牙面有色素沉着
A.广谱抗生素
B.可吸附于牙表面,缓慢释放
C.每日含漱2次
D.易使细菌产生抗药性
E.长期含漱,牙面有色素沉着
【◆参考答案◆】:D
【◆答案解析◆】:氯己定通过其阳离子表面活性剂特性发挥除菌和杀菌功能,此特性不易使细菌产生抗药性。
(6)【◆题库问题◆】:[单选,B型题] 未经细菌侵入的创口愈合应该是()
A.A.无菌伤口B.污染伤口C.感染伤口D.一期愈合E.延期愈合
A.A.无菌伤口B.污染伤口C.感染伤口D.一期愈合E.延期愈合
【◆参考答案◆】:D
(7)【◆题库问题◆】:[单选,A4型题,A3/A4型题] 患者,男性,20岁,需要拔,下牙槽神经麻醉后出现两侧面部不对称、右眼闭合不全、鼻唇沟变浅、口角歪斜。
【◆参考答案◆】:E
(8)【◆题库问题◆】:[单选,A4型题,A3/A4型题] 患者,男性,70岁,缺失,缺牙区牙槽骨较丰满,?龈距正常,松动Ⅰ°,余留牙切端与?面磨损较明显。拟可摘局部义齿修复缺牙。
A.当作基牙时,为有利于基牙和基托下组织的健康,可设计()
A.当作基牙时,为有利于基牙和基托下组织的健康,可设计()
【◆参考答案◆】:C
(9)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 患者,女性,16岁,主诉刷牙时牙龈出血1年余,时有牙龈肿痛。疑为侵袭性牙周炎,需做的检查是()。
A.附着水平
B.牙周袋深度
C.X线片
D.咬合关系
E.以上检查都需要
A.附着水平
B.牙周袋深度
C.X线片
D.咬合关系
E.以上检查都需要
【◆参考答案◆】:E
【◆答案解析◆】:所有牙周病的检查和诊断都必须包括以上各项。
(10)【◆题库问题◆】:[单选,A2型题,A1/A2型题] 一位患者要拔,口内局部浸润麻醉时麻药注射点为()
A.['唇侧牙龈深面+鼻腭神经阻滞麻醉
B.牙龈乳头上+鼻腭神经阻滞麻醉
C.固有膜上+鼻腭神经阻滞麻醉
D.唇侧牙槽黏膜下+鼻腭神经阻滞麻醉
E.口腔前庭沟黏膜下+鼻腭神经阻滞麻醉
A.['唇侧牙龈深面+鼻腭神经阻滞麻醉
B.牙龈乳头上+鼻腭神经阻滞麻醉
C.固有膜上+鼻腭神经阻滞麻醉
D.唇侧牙槽黏膜下+鼻腭神经阻滞麻醉
E.口腔前庭沟黏膜下+鼻腭神经阻滞麻醉
【◆参考答案◆】:D
【◆答案解析◆】:牙槽突区牙槽骨质较薄,且疏松多孔,局麻药液容易渗透入众多小孔进入颌骨麻醉牙神经末梢,因此正确的选择答案应该是D。